Three-quarter view of ePTFE membrane ULPA filter for semiconductor cleanrooms

Penapis udara dan penapisan kimia

Penapis ULPA membran ePTFE

Panel membran ePTFE ultra-bersih yang menawarkan pilihan kecekapan U15 atau U16, penurunan tekanan yang rendah dan mengurangkan pelepasan ionik atau serat untuk proses semikonduktor.

Media ePTFE U15-U16
Lapisan Penapisan Bebas Boron
Drop Tekanan Rendah
Pembinaan Low-Outgasing

Permintaan sebut harga Semak imbas produk

Pengenalan Produk

Penapis ULPA membran ePTFE menggunakan membran polytetrafluoroethylene yang diperluaskan yang dilaminasi kepada sokongan yang stabil dan dibentuk ke dalam pleat mini yang dikawal rapat. Lapisan penapisan bukan borosilikat mengurangkan penumpahan serat dan mengelakkan boron dari media kaca konvensional, manakala struktur membran nipis boleh memberikan rintangan yang lebih rendah pada kecekapan ultra-tinggi. Pemisah pengeluar gas rendah dan pot poliuretan mengamankan pek dalam bingkai aluminium anodized. Versi gel, gasket atau pisau-tepi bersepadu dengan siling bilik bersih semikonduktor, unit penapis kipas dan persekitaran mini alat proses.

Ciri-ciri Utama

Membran PTFE yang diperluaskan menyokong konfigurasi U15 atau U16 tanpa permukaan gentian borosilikat yang terdedah.

Lapisan membran nipis menyediakan profil penurunan tekanan yang baik untuk sistem bilik bersih beredar semula yang tinggi.

Media hidrofobik menentang pendedahan kelembapan yang singkat dan banyak bahan kimia dekontaminasi bilik bersih rutin.

Pek pengeluar gas rendah menyokong, bahan pot dan bingkai menghadkan pelepasan molekul yang boleh dielakkan berhampiran alat proses.

Kebimbangan Produk Pelanggan

Proses semikonduktor ultra-bersih memerlukan kawalan zarah kelas U tanpa menambah boron, serat atau rintangan kipas peredaran semula yang berlebihan.

Media borosilikat menyumbang bahan ionik yang tidak diingini berhampiran proses sensitif.Lapisan penapisan ePTFE mengelakkan media gentian kaca konvensional di permukaan tangkapan aktif.

Kecekapan kelas U menggunakan terlalu banyak tekanan dalam bilik bersih yang dikitar semula secara berterusan.Membran berpori tinggi dan kawasan lipatan yang dioptimumkan mengurangkan rintangan pada halaju muka yang dipilih.

Serat yang dilepaskan dari muka hilir menjejaskan optik atau permukaan wafer.Membran bukan gentian yang disokong menghadirkan permukaan penapisan hilir yang bersih.

Bahan-bahan pembinaan penapis menambah VOCs kepada persekitaran proses pengeluaran gas yang rendah.Pemisah terpilih, potting dan komponen bingkai meminimumkan pelepasan bahan yang boleh dielakkan.

Permohonan yang biasa

Fabrikasi semikonduktor canggihTeluk proses fotolitografiPembuatan OLED dan panel rataPerhimpunan optik ketepatanPersekitaran mini peralatan pelepasan rendah

Parameter teknikal

Julat pembinaan perwakilan untuk panel ULPA membran ePTFE ditunjukkan di bawah.

Bahan Teras	Media ULPA membran PTFE yang disokong dengan pemisah polimer yang rendah
Ketebalan Panel	65-150 mm keseluruhan kedalaman bingkai aluminium
Lebar berkesan	305-610 mm lebar muka nominal
Panjang maksimum	Sehingga 1220 mm Panjang muka nominal
Keluli Menghadapi Ketebalan	0.4-0.6 mm rendah menumpahkan keluli tahan karat atau bersalut grid pelindung
Ketumpatan teras	Kira-kira 20-35 kg / m3 setara ePTFE membran-ketumpatan pek
Kekonduksian Terma	Kira-kira 0.030-0.040 W / (m · K) untuk pek membran yang disokong kering
Kemasan permukaan	Aluminium anodized semulajadi yang bersih dengan penjaga muka rendah penumpahan gred semikonduktor
Jenis Bersatu	Gel poliuretan, gasket sel tertutup atau meterai perimeter tepi pisau yang diekstrusi
Penyesuaian	Boleh didapati berdasarkan aplikasi yang dimaksudkan dan persekitaran operasi.

Pilihan yang boleh didapati

Kecekapan membran U15 atau U1665 mm, 90 mm atau kedalaman bingkai 150 mmGel, gasket atau meterai pisau-tepipakej komponen semikonduktor yang rendah

Merancang spesifikasi penapis ULPA membran ePTFE?

Hantarkan kepada kami dimensi anda, syarat pemasangan, sasaran prestasi dan kemasan permukaan yang diperlukan.

Berbincang dengan pasukan kami