ภาษาอังกฤษ
ภาษาเยอรมัน
ภาษาอาหรับ
ฝรั่งเศส
ภาษาอินโดนีเซีย
ภาษาญี่ปุ่น
ภาษาเกาหลี
ภาษามาเลย์
ภาษาโปรตุเกส
ภาษารัสเซีย
ภาษาสเปน
ภาษาไทยปัจจุบัน
ภาษาตุรกี
ภาษาเวียดนาม
อุปกรณ์ห้องคลีนรูมเฉพาะอุตสาหกรรม
คลีนรูมเปียกม้านั่ง
A ventilated polypropylene wet-processing station integrating chemical baths, rinsing utilities and service access for controlled semiconductor and precision cleaning workflows.
- Chemical-Resistant Construction
- Controlled Rear Exhaust
- Modular Process Baths
- Serviceable Utility Cabinet
การแนะนําสินค้า
The cleanroom wet bench provides an enclosed, exhausted work zone for wafer cleaning, etching and rinsing. Welded polypropylene surfaces resist common process chemicals, while rear baffles draw vapors away from the operator. Baths, cascade rinse modules, DI-water fittings, spray tools and controls can be arranged around the required process sequence, with lower access doors separating utilities from the working deck.
คุณสมบัติที่สําคัญ
Rear and upper exhaust paths capture vapors across the process zone.
Modular bath openings accommodate heated process tanks, overflow rinses and sinks.
Accessible lower compartments simplify inspection of drains, valves and utility connections.
ความกังวลของลูกค้าเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์
Wet processes require chemical compatibility, reliable vapor capture and clean utility routing without compromising operator access.
Acid and alkali exposure rapidly degrades unsuitable bench materials.Chemical-compatible polypropylene or optional PVDF contact surfaces are selected for the process chemistry.
Fumes escape when exhaust distribution is uneven.Adjustable rear baffles and top exhaust connections draw air uniformly across the working zone.
Mixed rinse and process steps create inefficient handling paths.Baths, faucets and spray tools are arranged in the actual operating sequence.
Hidden leaks and blocked drains are difficult to service.Front-access utility compartments provide direct access to valves, unions and drain lines.
การใช้งานทั่วไป
Semiconductor wafer cleaning and etchingPhotovoltaic and substrate processingPrecision parts chemical cleaningResearch cleanroom wet chemistry
พารามิเตอร์ทางเทคนิค
Typical construction values for a modular polypropylene cleanroom wet bench are listed below.
| วัสดุหลัก | Welded chemical-resistant polypropylene with optional PVDF process-contact components |
|---|---|
| ความหนาของแผง | 8-20 mm polypropylene panels |
| ความกว้างที่มีประสิทธิภาพ | 1200-3000 mm work-zone width |
| ความยาวสูงสุด | Up to 6000 mm modular bench length |
| ความหนาของเหล็กหันหน้า | 1.0-1.5 mm for optional stainless utility reinforcement |
| ความหนาแน่นหลัก | 900-920 kg/m³ for polypropylene construction sheet |
| การนําความร้อน | 0.20-0.24 W/(m·K) for polypropylene construction |
| เสร็จสิ้นพื้นผิว | Smooth natural-white welded polypropylene with transparent amber safety sash |
| ประเภทร่วม | Hot-gas welded enclosure seams with gasketed access panels, union utility fittings and flanged exhaust connections |
| การปรับแต่ง | สามารถใช้ได้ตามแอปพลิเคชันที่ตั้งใจไว้และสภาพแวดล้อมการทํางาน |
ตัวเลือกที่มีอยู่
Open or enclosed sash configurationHEPA-supplied laminar airflow hoodQuartz, PP or PVDF process bathsPLC controls and automated chemical handling
Planning a Cleanroom Wet Bench specification?
ส่งมิติของคุณเงื่อนไขการติดตั้งเป้าหมายประสิทธิภาพและผิวที่ต้องการ
